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基于场致发射电流特性的真空灭弧室触头表面微观状况的无损检测方法
更新时间:2026-10-20
    • 基于场致发射电流特性的真空灭弧室触头表面微观状况的无损检测方法

    • Vol. 52, Issue 5, Pages: 2339-2348(2026)
    • DOI:10.13336/j.1003-6520.hve.20250903    

      CLC:
    • Received:31 May 2026,

      Published:2026

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  • GENG Yun, YAO Xiaofei, DING Jiangang, et al. 基于场致发射电流特性的真空灭弧室触头表面微观状况的无损检测方法[J]. 2026, 52(5): 2339-2348. DOI: 10.13336/j.1003-6520.hve.20250903.

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